文|潮黑

众所周知，在半导体领域，我国一直都处于一个相对比较落后的状态。相对于当下已经达到7nm、5nm的技术，目前国内依然在14nm左右徘徊，中间的差距可想而知。然而我国在整个世界范围内又是芯片领域最大的消费市场，此前有相关数据统计，在全球的芯片市场当中，我国就占据了将近32%左右。这样一块肥肉，或许在很多半导体领域的巨头看都是不能放弃的一块市场。

而在国内的芯片市场当中，国内自主研发和生产的芯片仅仅只占据了总份量的16%，其余的都需要通过进口来填补市场上的空缺。而每年我国花费在进口芯片上的资金就超过了2000亿美元，这样一笔巨额的资金就这样流入到了海外市场上。目前在国内半导体领域当中首屈一指的恐怕就是中芯国际，不过由于缺乏相应的光刻机，因此中芯国际没有办法在芯片领域做出更强的突破，到现在为止也不过才实现了14纳米制程工艺的量产。

作为国人，原本在这种情况下，应该正视这样的问题。但是近日在网络当中却突然爆出了一些让人觉得匪夷所思的消息，有消息称目前国内所使用的DUV光刻机完全能够实现5nm的量产，只不过需要采用一些独特的措施而已。准确的来说是要通过一种叫n+1的方案，这种方案就是基于现在光刻机的基础之上，通过一种比较另类的方式对于精度更高的芯片进行量产。

从理论上来看，这的确是一种有效的方式，而且也确实能够达到量产的要求。不过，只不过是一种非常不成熟的技术而已，这在其他国家很多年以前就已经彻底被淘汰。这种技术具有两个劣势，第一就是对原材料的消耗度是很高，造成的结果就是废品率过高。毫不夸张地讲，用这样的技术，如果生产100个芯片，最后很有可能会造成90个芯片的无法使用，这就意味着对于大量原材料严重的浪费。

其次，这种技术生产成本更高，原本适用EUV光刻机只需要经过简单的几个步骤就能够实现。但如果采用这种技术的话，很有可能会来来回回重复使用好几个技术。不仅在技术难度上大幅度提升，而且这些技术并不是很成熟，会浪费大量的时间和精力。这样来看，这种可以完成量产的说法只是在自欺欺人罢了。